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   製品概要  

 本装置は、4対の測定マイクロプローブと上下2台の赤外線加熱炉を有する高真空対応型のマイクロ
チャンバーとPID式循環型酸素分圧コントローラーから構成され、酸素分圧を1〜10E-30atm及び1イ
ンチのサンプル温度を最大1200℃まで急速加熱が可能なシステムです。

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   仕様・性能  
     
【赤外線マイクロチャンバー】
チャンバーサイズ φ152mm×80mm(内部φ100×50ml)
試料サイズ maxφ25.4×t2mm
試料ホルダー SiC製
照射窓 石英ガラス(上下2枚、Φ100×t6mm)
到達真空 10E−6Pa  
マイクロプローブ探芯 白金メッキタングステン(先端50ミクロンR)  
探芯移動方法 3軸(X,Y,Z)ステージ  
赤外線加熱炉 集光加熱方式(2kW/台)  
集光サイズ φ30mm(焦点距離80mm)  
最高温度 1200℃以上  
外形寸法 W364×H700×D364  
【PID式酸素分圧コントローラー】  
酸素分圧制御装置 1〜10E-30atm/CBタイプ  
処理ガス種 不活性ガス(N2, Ar, Heなど)  
処理ガス流量 200SCCM  
酸素分圧制御方式 ジルコニア式酸素ポンプ  
酸素分圧設定 デジタル式  
外部モニター制御・ソフト 標準添付  
   モニター項目 酸素分圧、ライン圧力  
   制御項目 酸素分圧、外部流路切換  
外形寸法 W220×H378×D570  
 
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