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製品概要 | |||
本装置は、4対の測定マイクロプローブと上下2台の赤外線加熱炉を有する高真空対応型のマイクロ |
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仕様・性能 | |||
【赤外線マイクロチャンバー】 | |||
チャンバーサイズ | φ152mm×80mm(内部φ100×50ml) | ||
試料サイズ | maxφ25.4×t2mm | ||
試料ホルダー | SiC製 | ||
照射窓 | 石英ガラス(上下2枚、Φ100×t6mm) | ||
到達真空 | 10E−6Pa | ||
マイクロプローブ探芯 | 白金メッキタングステン(先端50ミクロンR) | ||
探芯移動方法 | 3軸(X,Y,Z)ステージ | ||
赤外線加熱炉 | 集光加熱方式(2kW/台) | ||
集光サイズ | φ30mm(焦点距離80mm) | ||
最高温度 | 1200℃以上 | ||
外形寸法 | W364×H700×D364 | ||
【PID式酸素分圧コントローラー】 | |||
酸素分圧制御装置 | 1〜10E-30atm/CBタイプ | ||
処理ガス種 | 不活性ガス(N2, Ar, Heなど) | ||
処理ガス流量 | 200SCCM | ||
酸素分圧制御方式 | ジルコニア式酸素ポンプ | ||
酸素分圧設定 | デジタル式 | ||
外部モニター制御・ソフト | 標準添付 | ||
モニター項目 | 酸素分圧、ライン圧力 | ||
制御項目 | 酸素分圧、外部流路切換 | ||
外形寸法 | W220×H378×D570 | ||
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